详细摘要： 盛美上海的Post-CMP设备用于制造高质量衬底化学机械研磨(CMP)工艺之后的清洗，有湿进干出（WIDO）和干进干出（DIDO）两种配置。该清洗设备6英寸和8...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-08-11 在线留言盛美半导体设备（上海）股份有限公司
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